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金属系スパッタリングターゲット材



フラットパネル用スパッタリングターゲット材

特長

  • フラットパネルディスプレイの大型化、高品質化に対応
  • 大型一体物・高品質で安定した膜特性を達成

高純度
大型化(あらゆる世代に対応します)

材質

Cr ・ Al合金 ・ Ta ・Mo ・ Mo合金

液晶用大型ターゲット材photo

半導体用ターゲット材

特長

  • 低パーティクルで歩留まり向上に寄与
  • 高純度、高密度、微細組織の高い信頼性

高純度
高密度

材質

W-Si ・ Mo-Si ・Ti ・ W

半導体用ターゲット材photo

磁気記録用ターゲット材

特長

  • 多品種、多元合金を短期で納入、短期開発を支援

高純度
高密度
均一組織

材質

CoCr合金(、Ta等)・Cr合金(Ti、Mo、W等) Ni合金(Al、P等)

磁気記録用ターゲット材photo

組成・用途一覧

製品分野 用途 材質
フラットパネルディスプレイ 液晶TFT電極用
PDP電極用
反射電極用
カラーフィルター用
Cr, Mo, Mo合金
Al , Cu-Cr,Cu
Al合金,Ag合金
Cr , Ni合金
半導体 LSI電極用 MoSi
WSi
W
Cu
LSIバリアメタル用 TiW
Ti
Ta
Ta-X
キャパシタ用 Ru
Ta
フォトマスク用 Cr
MoSi
磁気記録 磁性膜 CoCrTa
磁気記録下地用 Cr
Cr合金
Ni合金
薄膜磁気ヘッド用
軟磁性膜
NiFe
CoTaZr,CoZrNb,FeCoB